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离开美国,中国几年内能造出高端芯片?上海官方给出答案

“离开美国,中国几年内能造出高端芯片?” 华为芯片事件发生后,国内有不少网友在网上提出这样的疑问,期盼“中国芯”的崛起。

这几年来,老美不断利用其在芯片领域的技术优势,向华为等中企“撒钉子”,企图限制我国科技产业的发展。

随着科学技术的更新迭代, 芯片已成为绝大多数电子产品的核心组成部分,没有了芯片的支撑,谁都无法正常运转 。

芯片虽小,但制造工程却非常庞大 ,首先要从一粒粒沙子中提取出纯度超过99.999%的单晶硅,然后还要切割成硅晶片,再经过光刻、等离子注入等一系列复杂的程序后,才能被应用在电子产品上。

在芯片制造的整个过程中,需要使用到EDA软件、光刻机、蚀刻机、等离子注入机、光刻胶等大量高尖端技术。

中国院士吴汉明曾在科技大会上发出感慨: 芯片是全人类智慧的结晶,需要全球半导体产业链的协作,仅凭一个国家的力量,很难造出高端芯片。

高端芯片虽然难造,但我们又不得不独自制造高端芯片的理由, 高端芯片已成为中国企业发展大路上的绊脚石,如果不能实现国产化,就无法摆脱被人鱼肉的命运,实现独立自主。

众所周知,由于荷兰ASML等公司使用了大量来自美企的半导体技术,不能实现对中企的自由出货,直接导致了国产芯片的落后,在中美科技竞争日益激烈的当下,我们离开美企的半导体技术,几年能够独自造出高端芯片呢?

对于这个问题,上海官方在前不久给出了一个标准答案: 14nm纯国产芯片已经实现规模量产,国产光刻机、蚀刻机、等离子注入机、5G芯片、12英寸大硅片等“卡脖子技术”已经实现了重大突破。

上海官方宣布的这条重磅消息,标志着我国半导体产业链的整体水平已经得到了极大的提升,与西方国家之间的技术差距进一步缩小。

结合这两年的媒体报道显示,清华、北大、中科院等科研机构已经掌握了EUV光刻核心技术, 用不了几年,我国就能造出属于我们自己的EUV光刻机 。五年之内,就可以解决高端芯片被卡脖子的问题。

14nm纯国产芯片的量产,再一次验证了一句话: 无论多么高尖端的设备,也不是神造,中国科学家都能造出来!

“中国芯”的不断突破,所带来的影响是巨大的,ASML公司由于担心失去我国这个巨大的市场,在过去的一年里, 不断加快在我国市场的布局,新开了多个研发中心,出售了78台DUV光刻机。

另外,由于国产芯片产能的不断提升,中企在今年前7个月累计砍单550亿颗芯片,且出口了1600亿颗芯片,或许是因为这个原因, 部分芯片的价格已从200元降至20元 。

俄乌冲突的爆发,告诉了我们一个现实,在 这个世界上,从来都没有所谓的“岁月静好”,我们之所以能够生活在一个一片安宁的环境中,是有人在替我们负重前行 ,为了这片“岁月静好”,希望每一位中国人都能站好自己的岗,为国家的繁荣富强贡献出那份微薄的力量。

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