上海新阳正式官宣，事关国产7nm芯片

　　芯片制造是一项繁琐，复杂的过程，大家只知道光刻机对芯片制造十分重要，可实际上光刻胶材料也是芯片制造中不可或缺的。日本掌握光刻胶核心市场，多年来占据垄断地位。一旦日本光刻胶供应紧张，就会对供应链造成连锁反应。
　　好在国产光刻胶厂商上海新阳传来好消息，其正式官宣，公司已有ArF光刻胶产品。上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？
　　上海新阳正式官宣
　　国产芯片供应链是相对完善的，很多关键的产业链环节在国内都可以找到，涉及芯片设计、光刻机四大件供应商和整机光刻机制造商。除此之外，在半导体芯片材料方面，国产光刻胶也有多家厂商参与其中，比如上海新阳就是其中之一。
　　上海新阳主营晶圆超纯化学材料产品，也就是光刻胶，除此之外上海新阳还在开拓氮化硅蚀刻液，掌握诸多核心技术。
　　值得一提的是，上海新阳在去年3月8日发布公告称，购得了一台ASML1400光刻机设备，对加速研发193nmArF干法光刻胶产品有诸多益处。
　　时隔一年，相信上海新阳已经凭借这台光刻机获得了不小的研发进展，那么上海新阳有何突破呢？根据上海新阳回答提问得知，该公司已经掌握了ArF光刻胶产品，受各方面影响认证进度较慢，但已有部分光刻胶产品获得订单。
　　这句话的重点是掌握ArF光刻胶产品，在光刻胶产品市场中，有分为g线、i线、KrF和ArF等光刻胶品类，最高端的则是EUV光刻胶。
　　作为芯片制造时用于涂抹晶圆硅片的重要化学材料，可以起到保护衬底基座的作用，对芯片制造非常重要。只不过在这些产线中的光刻胶产品，一直被信越化学、东京应化、富士胶片等诸多日企掌握垄断地位。就连台积电也需要大量从日本采购光刻胶材料。
　　尤其是ArF光刻胶，更是重中之重。有一定了解的人都知道，ArF光刻胶产品可以用在90nm到14nm甚至是7nm工艺节点的芯片制造工艺。
　　如果攻克高端ArF光刻胶核心技术，那么将占据芯片制造产业链市场的关键地位。现在台积电、中芯国际、三星等芯片制造商都在加紧芯片制造产能，纷纷扩建，新建芯片工厂。
　　未来对光刻胶的需求还会更大。而这时候，上海新阳传来消息，正式官宣掌握了ArF光刻胶，无疑是件喜事。既然知道了光刻胶的作用和市场地位，那么上海新阳已有ArF光刻胶产品意味着什么？
　　已有ArF光刻胶产品意味着什么？
　　大家对上海新阳的了解可能并不是很多，但只要有关注国产光刻胶的发展情况，上海新阳都是不可忽视的。
　　该公司开展多个重要的光刻胶研发生产项目，面向高端也有展开布局，而这些布局，很大层面上是靠ArF光刻胶展开的。国产芯片正值产能加速之际，中芯国际手中还有三大芯片工厂建设项目，以及长江存储，闻泰科技等诸多巨头纷纷加快半导体动作。
　　而现在上海新阳已有ArF光刻胶产品，意味着对国产芯片制造产业将起到加速自主化的作用。
　　而且上海新阳的这项ArF光刻胶产品事关国产7nm芯片，前面提到ArF光刻胶可用于7nm工艺节点，我国在7nm芯片制造产业链中并非没有布局，甚至还下探到了更先进的5nm。
　　比如中微半导体的刻蚀机就可成功刻蚀5nm芯片，在芯片设计层面也有一些国产5nm订单作为需求支撑。
　　所以上海新阳将来如果能彻底攻克7nm制程节点的ArF光刻胶，必然有利于国产7nm芯片的发展。解决了一个问题，再去解决第二个，第三个，按这种趋势发展下去，迈入最终一步也并非不可能。国产光刻胶的发展状况
　　虽然上海新阳并没有透露已有的ArF光刻胶是处在多少纳米水准，也许是55nm，也许是28nm，甚至是14nm都有可能。如果情况再好一些，上海新阳又取得了重大科研进展，触碰到7nmArF光刻胶也未必没有可能。
　　除去上海新阳这次传来的好消息，让大家知道了这家公司有怎样的业务情况，那么国产光刻胶又处于怎样的发展状况呢？总的来看，可能暂时达不到日本光刻胶垄断产业的水准，但已经有很多国产光刻胶厂商不断取得进步。
　　比如南大光电在ArF多个技术节点实现认证，重要项目通过国家级专家组验收。还有晶瑞电材的193nmArF光刻胶研发工作已经展开。彤程新材的KrF光刻胶已实现批量供货。其余的广信材料，飞凯材料等等国产光刻胶厂商均有各自的进展。
　　这些国产企业相对集中在中低端光刻胶市场，而在中端已经有南大光电，上海新阳成为主力。至于高端的EUV光刻胶，目前仍处在进口阶段。写在最后
　　国产光刻胶和诸多核心半导体技术一样，都是需要长期耕耘和努力付出的。日本能在光刻胶领域取得这般地位，同样是靠几十年的积累。所以不需要气馁，相信只要不断取得进步，一定能实现厚积薄发。
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