哈工大再获突破！成功研制激光干涉仪，对光刻机贡献有多大？

　　2022年12月7日，哈工大宣布高速超精密激光干涉仪荣获金燧奖金奖，引得网友直呼，突破了光刻机的关键技术，甚至说国产芯片将突破掣肘，那这到底是真是假，这项技术到底有什么作用呢？
　　光刻机的重要性
　　在通讯和网络相关领域中，芯片起着至关重要的作用，同样也成了许多人关注的对象，但它的制作也成了不少人的心病，也就是在晶圆上用光刻机刻出电路，然后把晶体管连接起来。
　　但说起来简单操作起来可不容易，在指甲盖大小的晶圆上安装数以亿计的晶体管，要想将这些晶体管连接起来，只能采用的纳米级的电路，所以这也就必须要用到我们说的光刻机。那这个光刻机到底难在了哪里，我国的光刻机研发又走到了哪一步了呢？光刻机的难点
　　我们都知道光刻机属于是全球顶尖的科技，并不是某一企业就可以全部掌握的技术，就拿瑞士的ASML（阿斯麦）来说，它最先进的EUV光刻机有10万个零部件，分别来自于全球5000家供应商，自主的技术其实不到10，所以我们要想解决光刻机问题，是必须要实现关键技术的国产化。
　　而光刻机主要就是由激光光源、物镜系统以及工作台这三个核心部分组成，它们之间相互配合就是为了完成更为精确的光刻，数值越小芯片性能也就越强，当然难度也就大。
　　就拿激光光源来说，为了实现更精确的光刻，就必须要提高分辨率，那就只有两种方法，分别是减少光源波长或提高数值孔径，单是其中一项就很难实现，就好比一个普通人拿乒乓球连续两次击中正在飞行的苍蝇，难度可想而知。
　　所以目前最顶尖的光刻机的光源波长达到13。5nm，也被称为极紫外光。我国的哈工大已经研发出的DPPEUV光源，使我国初步掌握了极紫外光刻的核心光学技术。
　　接着说说数值孔径提高的方法，那就是改变环境的折射率，折射率越大孔径也就越大，于是人们研究出了浸入式光刻机，也就是前面提到的工作台，它是将光学系统浸入水中，通过水来进行折射，从而实现更高的折射率提高数值孔径。
　　我国的华卓精科就已经掌握了双工件台核心技术，研制了干式双件台以及浸没式双件台，但目前仍然有一些问题需要解决，就比如如何保证液体不会对镜头造成污染，不会产生气泡等等。
　　最后就是物镜系统，类似于镜头，它的作用是精确成像、控制像差，一般光刻机需要29枚镜头，而且每一枚镜头的平整度非常高，就是为了尽可能完美的将模板复刻在芯片上。据了解，我国的长春光机所已经突破了光刻机核心部件光学投影物镜制造关键技术。那是不是就有朋友想问了，高速超精密激光干涉仪和光刻机的这些核心系统，又有什么关系呢？
　　激光干涉仪和光刻机有何关系
　　高速超精密激光干涉仪的探测头体积小，可以嵌入到试验装置或精密装备中，在狭小的空间中进行测量任务，再加上它只需要单根光纤就可以连接探测头和主机，更容易完成超精密的测量目标，可以对晶圆、物镜系统、工作台位置的超精准定位，从而为我国高端光刻机研发提供嵌入式在线测量手段，为纳米计量测试提供核心仪器。
　　如果没有配套的激光干涉仪，国产光刻机等设备的调试、生产工作就无法进行，所以也属于关键技术之一。它的出现不仅解决了我国高端装备发展的卡脖子问题，还可以将校准结果溯源至激光波长，提高校准的不确定度，从而解决该领域存在的测不准、测不精、测不快的核心难题，可以说该设备的核心技术突破，也是实现高端光刻机设备国产化的重要条件。
　　另外在这里，怂叔还想说一下，新技术的突破从设想与实验室环节到量产都需要时间，也存在变数，所以我们要脚踏实地，才有望在510年内从根源上解决光刻机的难题。