光刻机崛起坐实！ASML正式承认，芯片技术开始转移

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　　在遭遇了西方的芯片技术封锁后，我国自主研发高端光刻机的呼声越来越高，虽然近日来很多权威人士对这样的做法泼来了冷水，但是国际巨头ASML却对国产高端光刻机的研发充满了信心。
　　众所周知，我国在光刻机研发领域起步较晚，相比于西方仍然具有较大差距，并且根据数据统计，一台EUV光刻机价值上亿美元，并且零件数量高达上万件，分别来自全球5000多家供应商。
　　更不利的是，美国、日本、德国都是光刻机核心零件的主要供应国，而目前它们对中国的科技发展态度并不友好，所以这也给国产光刻机零件的供应增添了不少难度。
　　即便如此，国产光刻机发展势头依旧迅猛，近日，ASML首席执行官公开表示：欧美国家的高科技产品将会在15年后失去东亚大国市场，那时，ASML可能失去竞争力，进而失去全球范围内的光刻机市场。
　　由此可见，ASML对我国高端光刻机发展充满信心，突破只是时间问题。
　　至于ASML所说的15年，也许太过漫长，因为中国等不起，世界也等不起。目前，全球芯片短缺日渐凸显，影响范围已经波及到汽车产业，当然，电子产业将成为最大的受害者。
　　在芯片发展的道路上，中国除了自主研发，已经别无选择，因为摆在我们前面的还有三个难题。
　　第一，芯片作为人工智能时代的大脑，决定着未来科技发展的速度和轨迹，同样也决定着市场的归属，西方国家不可能让我们乘坐他们高精度芯片的发展快车来削弱自己。
　　第二，随着科技无国界的定律被打破，技术变得越来越保守，而我国的科技要想按照既定路线发展，就必须摆脱对西方的依赖。
　　第三，西方制裁华为给国内企业敲响了警钟，核心技术必须掌握在自己手里，否则只会是爬得越高摔得越痛。
　　虽然光刻机被誉为工业技术界的明珠，研发难度甚至超过核武，但是，我国作为芯片消耗大国，一旦在半导体制造领域被卡脖子，将严重滞缓人工智能时代的到来。
　　所以，我国目前已经在半导体制造领域重点部署，光刻机更是重中之重。而西方为了狙击我国的芯片计划，也使出了以下险招。
　　首先，台积电计划赴南京建立28nm芯片厂，以此来抢夺中芯国际在大陆的市场，从而压制其成长。
　　其次，ASML在国内建立研发中心，并申请了数千件专利，目的就是阻止我国在光刻机领域的发展。
　　最后，美国邀请了全球64家芯片制造商以及对芯片需求量较大的企业组成了半导体联盟，意在全面瓦解中国芯片制造供应链。
　　从以上的种种迹象表明，西方不希望中国在芯片领域获得突破，卡住核心技术是它们当前的统一目标，所以步调才会如此一致。
　　从中国近代的发展可知，西方越是奋力围堵，我们越能独立突破，原子弹就是最好的例子。
　　对外，我们不采取一刀切；对内，我们实行国内大循环。当前国内企业斗志正盛，它们需要的是市场，所以对于外来企业，我们应该适当的进行限制，把发展空间留给本土公司。
　　光刻机研发再难，也难不过上青天，中国目前人才储备全球第一，再加上长期驻外的大批高端华人科研者，只要我们给到予他们足够好的待遇和平台，任何的困难都将成为纸老虎。