事关3nm!三星与美企联手改善良率,能给台积电带来竞争压力么
在芯片代工领域里,台积电和三星是老对手了,虽然,台积电目前具有领先优势,但是,三星也不甘落后。在3nm先进工艺方面,两家的竞争也开始正式拉开帷幕,都已经开始了量产。
不过,三星一直苦于3nm工艺良品率问题,一直也未能占得上风。如今,三星与美企联手改善3nm良率,能否赶上台积电,给它带来竞争压力?
三星与美企联手改善3nm良率
11月19日,据韩媒Naver报道称,三星已与美企SiliconFrontlineTechnology公司合作,希望通过对方的ESD(静电放电)预防技术,帮助三星晶圆厂改进前端(frontend)工艺和芯片性能。
三星表示,希望通过此项合作,以提高其公司的3nm芯片良率,以便于在3nm工艺上赶超台积电。
合作能改善三星3nm的良率么?
在先进工艺方面,三星的良品率一直存在问题,自5nm工艺开始到4nm3nm,其良率问题变得更加严重。有消息称,三星的3nm良率只有20,相当于生产100片晶圆只有20片是能用。
良率过低自然影响芯片性能水准,也会因生产过多的废片导致芯片制造成本增加,这就会导致三星先进工艺量产进度陷入瓶颈。之前就因为良率过低,三星的5nm和4nm出现了量产问题,为了避免3nm重蹈覆辙,三星才决定与SiliconFrontlineTechnology公司合作。
也许大家对这家美企有所陌生,其实,它是一家专门做芯片鉴定评估和ESD(静电放电)预防技术的美国公司。
而这个ESD,对电子产品造成的破坏和损伤较大,特别是对于新技术和更大的芯片,ESD故障占据半导体故障的25以上。在芯片制造过程中,设备和金属之间的摩擦造成的ESD,也是造成半导体芯片缺陷的主要原因之一。
简单点来说,由设备和金属摩擦产生的静电放电引起的3nm工艺缺陷,占据了25以上。
那么,三星与SiliconFrontlineTechnology公司合作后,通过其ESD解决方案对全芯片和封装进行瞬态仿真,分析所有互连和器件,从而可以快速识别和纠正问题。这样,可以有利于降低ESD故障率,也等于提升了3nm工艺良率。
能否赶超台积电并给它带来竞争压力?
从技术应用的角度来看,三星3nm使用的是GAA技术,而台积电依然使用FinFET技术。以技术的先进性来看,GAA是FinFET的晋级版本,前者是一种环绕栅晶体管,能够大幅度提升晶体管的性能。
比如,三星的3nm工艺,相比7nm工艺各方面性能就提升了不少,比如:提升了35的性能,降低50的功耗,逻辑面积也提升了45。比台积电3nm工艺提升数据大了一截,对应的数据分别是:18、34、18。
光看技术应用,以及理论上的性能提升,三星确实能够给台积电带来竞争压力。但是,这些数据并不能说明任何问题,还是要看芯片工艺的良率、成本,以及市场和客户。在这些方面,台积电依旧占据着优势,三星还超不过它。
首先,良率与技术有差距
三星的GAA技术确实高于FinFET技术,但是,不代表台积电没有开发GAA技术,它在2nm就使用这个技术。台积电在3nm上使用更为成熟的FinFET技术,最主要的原因,还是要确保良率。
据了解,台积电3nm的良率依旧很高,与其5nm良率几乎一致。据台媒体消息,在台积电PPT一页内容上显示,其N3E工艺进展良好,且平均良品率达到了80以上。即便三星通过与美企合作改善良率,其良率想要达到80以上,还有一段距离。
不仅如此,在3nm晶体管密度方面,三星与台积电也有一定的差距。据Digitimes就统计,三星3nm的晶体管密度大约为170MTrmm(百万晶体管每平方毫米),与台积电的5nm差不多,而台积电3nm的密度约为276。8MTrmm。
其次,台积电在市场与客户方面有优势
台积电占据了全球50以上的份额,这一点优势极大,三星想要争夺这些市场,破费一些力气才有点希望。而其中包含的大客户,基本上都是全球排名前十的设计公司,三星想要获得它们的认可,也需要时间。
在客户资源方面,苹果、英伟达、英特尔、联发科、高通等巨头,其实都偏向选择台积电,有望成为其3nm的客户。至于三星方面,截至目前,还未传出有大客户提出,要将订单交付给它来做。
这样,台积电会优先获取90的先进工艺订单,有订单资源的支持,其3nm工艺才会走得更远。
另外,三星毕竟也做手机、电脑等相关业务,其实与苹果这类需求先进工艺大客户的存在竞争。想必,苹果这类大客户,更愿意选择台积电。毕竟,台积电更专注于芯片代工业务,与其他芯片设计、销售方不存在竞争关系。
总结
所以说,三星与美企合作,确实能够改善部分良率。但是,三星的3nm良率需要提升更多,还在于全面提升自身技术,才会大幅改善良率。
就目前的数据来看,三星可能还不能超过台积电并给它带来竞争压力,但是,未来怎么样,还是取决于三星自己。要是能更好的解决3nm良率问题,更好的降低成本,有足够的产能供给,或许会赢得更多的客户。
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