国产5nm芯片刻蚀机量产，地位堪比光刻机，从零到世界一流的突

　　引言：在芯片制造过程中，有三大核心关键工艺：光刻、刻蚀、薄膜沉积，分别对应核心设备光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备，三大核心设备分别占整个芯片制造设备投入的22、22、20左右，由此可见，这三大类设备在芯片制造领域的重要性！
　　我们这次要谈的就是，三大核心关键设备之刻蚀机！
　　光刻是将图形转移到覆盖在半导体硅片表面的光刻胶上的过程，刻蚀作为光刻的下一个工艺节点，指的是用化学和物理方法，在经显影后的电路图永久和精确地留在晶圆上，选择性的去除硅片上不需要的材料，刻蚀工艺非常复杂，技术难度仅次于光刻过程！
　　所以，刻蚀机和光刻机一样，在芯片制造领域都属于是非常关键的设备！
　　根据Gartner数据，2020年全球刻蚀机市场规模约为120亿美元，预计到2025年全球市场规模在150亿美元以上！
　　目前全球市场主要被美国的LamResearch（泛林半导体）、AMAT（应用材料）、日本的TEL（东京电子）三家企业占据，垄断了94的份额，其中泛林半导体市场占比高达50以上，是该领域的绝对龙头。
　　我国的刻蚀机产业，经过近20年的潜心发展，已经取得了突破性的进展！
　　2020年，上海中微公司5nm刻蚀机设备实现批量生产，并打入台积电5nm的芯片制造生产线，技术达到国际先进水平！
　　我们也可以看到，在众多的半导体设备中，刻蚀机是我国国产化率占比最高的设备之一。2020年，刻蚀机国产化率已经达到了20。
　　中国在刻蚀机领域取得如此成绩，从零到世界一流的突破，可谓是二十年磨一剑！
　　5nm刻蚀机，诞生国产刻蚀机第一巨头！
　　上海中微公司，成立于2004年，17年来专注于芯片刻蚀设备的研发，从最初的65nm开始到14nm、7nm，再到突破5nm的芯片制程，已然成长为国内刻蚀机领域的第一巨头！
　　上海中微的研发实力不可谓不强大，自成立以来，累计申请专利已经超过1500余件，建立起了完备的知识产权体系，并且在四次与海外巨头的专利诉讼中，硬刚到底，无一败诉！
　　上海中微的刻蚀机已批量进入台积电、中芯国际、华虹集团、长江存储、海力士、格罗方德、意法半导体等国内外知名半导体制造企业。
　　近日，行业又传来消息，上海中微的3nm刻蚀机已经研发成功，有望进入了量产阶段！
　　国家集成电路基金战略投资上海中微25亿元，释放什么信号？
　　7月初，中微公司获得国家集成电路产业基金二期股份有限公司25亿元战略投资，并成为中微公司第五大股东，持股比例为3。97，可以说是国家基金的大手笔扶持！
　　我们可以看到国家集成电路产业基金一期主要投资的方向为芯片设计、制造、封测等行业，
　　而国家集成电路产业基金二期则重点投向了半导体装备及材料领域，这些都是急需资金支持的芯片上游卡脖子领域。
　　国家大基金投资风向的转变，可以看出国家对芯片产业的投资正在逐步深入，已然从下游的设计、制造、封测等领域，逐步向半导体产业链上游进发，开始解决基础制造设备和基础材料领域的卡脖子问题！
　　这次，在国家大基金的加持下，国产刻蚀设备必将加速突破，彻底解决芯片刻蚀领域的卡脖子问题！
　　总结
　　总体来看，中国芯片产业起步晚，很长时间都受制于人！
　　但是，随着近几年国家政策的大力扶持及国家集成电路产业基金的大手笔投资，国内的半导体行业已经焕然一新，同时要想打破国外的长期垄断就必须加强整个产业链的研发，这其中就包括上游半导体设备和材料方面的全面突破！
　　正所谓，千里之行始于足下，相信用不了三五年中国芯片产业必将以全新的姿态出现在世界面前！
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