3年140台！EUV设备不再稀缺？ASML终于下定了决心

　　EUV光刻机是芯片制造的核心设备，该设备在整个芯片制造产线上的技术占比高达约40，其重要性不言而喻。然而，由于EUV设备高精尖的技术门槛，以至于全球能生产的只有荷兰ASML。
　　在老美对华为等中企实施芯片禁令之后，EUV设备便成了我们突破封锁的最大拦路虎。ASML虽然有意向国内市场出口，但却因产线上使用了美国的技术以及产能不足这两方面原因，导致迟迟未与国内芯片企业达成交易。
　　为了实现高精尖芯片国产化，中科院、清北高校等科研机构纷纷入局高精尖的研发。短短两年时间内，中国科学家们便突破了光源、双工件台系统、光学镜头这三大EUV核心技术。与此同时，上海微电子自研的国产28nm光刻机也传出了年底正式商用的好消息。
　　我国是全球最大的半导体消费市场，对于在半导体领域中具有唯一性的ASML而言，我们在光刻技术方面的突破，是它最不愿意看到的。因为一旦我们实现了光刻设备自主，那么ASML的市场地位将会受到巨大的冲击。
　　为此，ASML曾警告老美：芯片断供适得其反，只会加速中国自给自足的步伐，五年之内，他们将掌握包括EUV设备在内的所有高精尖芯片技术，届时ASML将有破产的风险。
　　可惜，老美对于华为等国产高科技企业太过忌惮，完全不顾所有人的反对，宁可让美企以及使用美技术的企业承受无法自由出货的损失，也不愿意主动让步、解除限制。
　　对于ASML来说，想要在未来不被排除在中国市场之外，目前唯一的办法就是扩大EUV的产能，将这项稀缺设备变的普及化，同时研发出更先进的新型设备，以实现在不违法老美限制规则的情况下，换取EUV的自由出货。
　　果然，在我国光刻研发不断突破的压力下，被老美限制自由出货的ASML终于下定了决心。
　　首先，在上个月，ASML公开宣布，新型的EUV光刻机NEX：5000的各项零部件已经制造完成，将在今年底运往荷兰总部进行安装，预计在2023年实现投产。
　　其次，ASML大举招兵买马，不仅在韩国投资2400亿韩元建立EUV集群，而且还在荷兰、美国两地总计投资数十亿美元来扩大EUV产线。另外，ASML还不断扩大科研团队，工程师人数将增加20，达到3400人的规模。
　　外媒报道，ASML计划在今年年底再出货25台EUV光刻机；在2022年，将产能提高至55台；2023年，则把产能再次提升到60台。总计三年140台！
　　要知道，EUV设备从2015年商用至今，ASML总计也才出货了不足100台，且仅台积电就包揽了约70的产能。
　　如今ASML方面的突然提速，必然会在很大程度上改变目前的全球芯片格局。
　　随着EUV的普及以及新型EUV的出现，全球芯片制造产业之间的差距将进一步缩小；更重要的是，ASML或许就可以实现自由出货，因为在新型NEX：5000出现之后，EUV将不再是最先进的技术，而且也不再是稀缺的设备。
　　因此，ASML如果能达成3年制造140台EUV光刻机的计划，或许未来还能在庞大的中国半导体市场中拥有一席之地。