DUV光刻机可越过美许可？抛弃杂念，自主光刻技术提速才是根本

　　最近，全球唯一能生产EUV光刻机的设备制造商，荷兰ASML的首席财务官罗杰达森（RogerDassen）在公布第三季度财报时表示：ASML可以在没有美国许可证的情况下从荷兰向中国出口DUV（深紫外）光刻机，但涉及到直接从美国向客户发送货物或零件，则还需申请许可证。
　　前一句话我们大概立刻能懂，尽管DUV光刻机是上一代技术产品，但它覆盖了96nm7nm芯片工艺制程，如果能顺畅为我们提供产线设备支持，这当然会是非常振奋的好消息。
　　但后一句话，笔者暂时未能清晰理解。
　　iftherelevantsystemsorpartsareexportedfromtheUnitedStates，theequipmentstillneedstobelicensedbytheUnitedStates。
　　翻译过来就是：如果相关系统或部件是从美国出口的，该设备仍需获得美国的许可。
　　我想大概是ASML的CFO为自己太满的话，做一些缓冲的找补吧。DUV光刻机同样使用了大量的美国技术
　　1994年ASML的市场份额只有18。其主要对手是日本的尼康和佳能。
　　1997年Intel和美能源机构共同发起成立了EUVLLC，汇聚了美顶级的研究资源和芯片巨头，包括劳伦斯利弗莫尔实验室、劳伦斯伯克利实验室、桑迪亚国家实验室三大国家级实验室，联合摩托罗拉、AMD等企业，集中数百位顶尖科学家，共同研究EUV光刻技术。
　　ASML为了获得美方的技术，写下保证书：55零部件会从美国供应商处采购，并主动接受美方定期审查。这是世界光刻机格局重大的转折点。
　　美不仅向ASML注入了资本，还注入了大量技术。ASML被容许收购了美系掩罩技术龙头SiliconValleyGroup、美系光刻检测与解决方案玩家Brion、美系紫外光源龙头Cymer等公司。ASML已经融入了众多美系技术。
　　后来的事情我们都知道了：2010年ASML推出第一台EUV光刻机NXE：3100。自此，ASML成为全球唯一一家能够设计和制造EUV光刻机设备的厂商，成为超高端市场的独家垄断者。
　　DUV光刻机如何绕过美系技术的门槛呢？ASML的财务没给我们太多的解释。4G时代，与华为合作的典范荷兰电信KPN，在5G时代选择了爱立信
　　荷兰电信公司KPN拥有约34的市场份额，在4G时代，与华为保持着卓有成效的关系。
　　2014年，华为赢得了提供KPN2G，3G和4G核心网络建设合同，而且，KPN还采用了华为的软件代替传统的CRM和计费系统，使之成为华为的经典成功案例。
　　但即使这样，荷兰的电信运营商，依然没有顶住美方的压力，只能选择爱立信为其5G核心网络的基础设施提供商。这是一项为期五年的协议，爱立信已同意向荷兰主要电信公司提供其双模5G核心软件，该软件将构成KPN5GStandalone（SA）产品的骨干，并提供集成和支持服务。
　　这说明，荷兰的抗压能力还是不能太过于寄望。2019中芯国际向ASML购买了一台EUV光刻机，因为众所周知的原因，至今未收到货。晋华事件中，美厂商决然撤场后，ASML没有放弃商业道德
　　2018年10月，一纸禁止令后，晋华被列为出口管制清单中，30天后，美系设备、材料等供应商全面撤出，包括机台安装、协助生产等动作也立刻停止，之后传出连非美系的供应商也撤出，整个12寸厂房呈现停摆状态。
　　反而是光刻机巨头ASML并未如外传撤出，仍在默默支持，奉守着我们记忆中欧洲知名企业应有的商业道德，ASML当时表示，会在符合各种法规要求的前提下，正常支持客户。
　　在过去的20年中，ASML在中国迅速发展。目前ASML在中国已有700多台光刻机的装机，几乎所有主要芯片生产厂商都有ASML的服务。
　　根据ASML发布的财务报告，ASML光刻机的净销售额在2020年第三季度达到31亿欧元，而中国大陆市场占21。
　　今年5月，ASML与无锡高新区签署了战略合作协议，以扩大和升级无锡高新区的ASML光刻设备技术服务（无锡）基地。在此之前，ASML已在北京，上海，深圳，无锡等地开设了分支机构，为客户提供服务和咨询。其中，深圳是ASML在亚洲最大的软件研发中心。
　　毫无疑问，ASML是科技全球化的最具典范的受益者，光刻机汇集了世界上精密光学、精密运动、高精度环境控制等多项先进技术，ASML的供应商也有来自大陆的企业。ASML的商业诚意应该是毋庸置疑的。光刻机的重要性众所周知，自主发展之路是我们必须经历的
　　光刻机设备是所有半导体设备中复杂度最高、精度最高、单台价格最高的设备，也是现代工业的集大成者。可以说，年产值几百亿美元的半导体设备支撑了年产值几千亿美元的半导体制造产业，而ASML几乎主导了整个高端光刻机设备市场。
　　尤其是EUV光刻机，随着中芯国际接近7nm制程，如果没有EUV技术，国产芯片制造，将无法在未来向先进工艺形成突破。EUV光刻机是延续摩尔定律的关键以及现阶段最优解，而且改善空间巨大。EUV是多方顶尖研发合作的产物，技术壁垒极高，短期国产化可能极低。
　　目前，在半导体领域针对我们的各种封堵，反而在助推我国半导体产业的自立与发展。在庞大的半导体供应链上，我们有1000多家新兴的半导体相关公司。2019年，在科技逆全球化的氛围里，大陆的晶圆市场规模仍以22位居世界第二。
　　作为集成电路制造过程中的核心设备，光刻机起到至关重要的作用，芯片厂商想要提升工艺制程，就必须要向ASML购买光刻机，全球知名的芯片厂商英特尔、三星、海力士、台积电、联电、格芯等都是ASML的客户。
　　我们必须要有自己的光刻机，或者必须拥有能够制衡外域可恣意实施科技封堵的自主光刻技术。结语
　　在当前局势下，实现光刻机的国产替代势在必行，具有重大战略意义。在02专项光刻机项目中，设定于2020年12月验收193纳米ArF浸没式DUV光刻机，其制程工艺可以覆盖28纳米以上。考虑到此项目作为十三五目标，未来具有较大的明确性，结合28nm作为当前关键技术节点的性能和技术优势，期待，我们的国产光刻机能尽快打破国外巨头完全垄断的局面，实现从0到1的突破。