令人振奋!中国28nm和14nm光刻机最新进展,国产芯开启提
近几年在美国的打压下,中国的光刻机制造技术反而突飞猛进,上海微电子公司宣布,28nm和14nm光刻机技术有了最新进展,国产芯片即将迎来提速模式。如今中国芯片真的迎来全新改革了吗?
中国光刻机技术迎来新发展
据报道,在上海国际半导体展会中,一家日本媒体对中国近20家芯片企业进行了采访,其中上海微电子公司的工程师透露出一个振奋人心的消息,我国28nm和14nm芯片生产的光刻机都已经成功获得突破,虽然现在所研究的产品还需要调整,但是由此可见我国现如今光刻机制造技术取得了很大的发展。
同时,上海微电子公司还表示,现如今他们已经能够提供用于5nm芯片生产的刻蚀机,相信在不久的将来14nm和28nm芯片生产的光刻机也将和我们见面。不过据相关专家表示,我国现在最主要的市场还是40nm芯片和50nm芯片的制造出口,在高端芯片研发中依旧存在着很大的难题。
高端芯片技术依旧是难题
据了解,目前中芯国际订购的ASML公司EUV光刻机无法发货,这对于我国研制7nm芯片造成了很大影响,也正是因此,现在越来越多的人都期盼国家能够早日地研发出属于自己的光刻机制造技术,早日将中国从被卡脖子状态中解救出来。
现在清华大学、南京大学、北京大学等国内多所著名大学都就芯片制造建立了专门的学院,未来该行业中一定会涌入越来越多的人才,他们也将成为我国半导体制造行业的中流砥柱,为我国发展作出卓越贡献。
中国芯片市场未来可期
国际著名光刻机制造公司ASML的负责人表示他们有理由相信中国在未来的15年中,芯片制造领域将会迎来翻天覆地的变化,而这一切其实都要间接感谢美国,因为美国的打压使得中国芯片制造业迎来了日新月异的变化。为此,ASML公司在这段时间中多次对中国示好,甚至不惜违背美国警告和中国展开合作,由此可见中国芯片市场行业未来可期,我国一定会成为该行业的佼佼者。
虽然在短时间内我国依旧无法突破高端芯片光刻机制造技术,但是如今我国正在一步步地向前发展,此次能够顺利突破14nm和28nm芯片的技术,也间接表明了中国现在的发展速度飞快,相信在未来几十年中我国很有可能将会迎来新的发展机遇。