中国中微造出3nm刻蚀机，与荷兰ASML光刻机还有多大差距？

　　光刻机和刻蚀机是芯片产业链上两道不同的工序，也可以说是一个水桶上的两块不同的桶板，所以怎么比较呢？就好比鸭子和兔子，你能放到一起怎么比？
　　中微的3纳米刻蚀机在刻蚀机的领域算是做到了顶尖。ASML的EUV光刻机在光刻机领域内也是做到了顶尖。如果要比，这也只能说是两个分别破吉尼斯记录的大兔子和大鸭子吧。
　　按照甲级足球队和乙级足球队分别踢不同的联赛，那么大概中微的刻蚀机是可以与ASML的光刻机去组成最先进的芯片生产线，这两个设备在这条生产线中都不是那个掉链子的环节，这大概就是可以比的地方了。
　　从物以类聚的这个角度来看，中微的刻蚀机和ASML的光刻机都在自己领域内做到最好，是一个档次的东西了。在设计芯片生产线的时候，这两个设备是会被自然而然地设计到一条产线中去，就是最好的比较了。这算是有差距还是没差距呢？大概也就是如此了。
　　两个都不是一个东西怎么比？一个光刻机，一个刻蚀机。生产芯片时都是先光刻出图形再刻蚀的，我们国家目前光刻机虽然落后了些但刻蚀机技术还是不错的。
　　理论上10nm以下就没有太大的意义了，电磁噪声毛刺边界会干扰相邻的电路，目前实用的极限是7nm，且只在手机CPU这种领域有意义，所以用不着盯着这种信息，没啥实际意义。
　　刻蚀机是做刻蚀的，光刻是用光在光阻上曝光显影，在光阻上做出图形。刻蚀大多数情况下是沿着光阻上的图形做刻蚀，把已经有的光阻图形的在晶元上刻蚀出图形出来。这是半导体里面的两个不同的领域。
　　光刻是前一道工序，而蚀刻是后一道工序，前一道没做好，后一道再好，也是空的！
　　科学的东西太尖端、绕口令似的解释，咱也听不明白，打个比方跟您说吧。
　　光刻跟蚀刻是两种不同领域里使用的技术，光刻机和蚀刻机就是那不同领域里进行作业的工具，虽然他们进行的是同一个产品作业，但工序不一样。就像做一件衣服，光刻是在设计样式、尺寸并绘制图形，蚀刻是进行分割、裁剪。
　　一件衣服究竟怎么样，不仅看设计的好不好，线条划没划歪；也要看分割得好不好，剪没剪走形。设计师和裁剪师是服装设计建造不同环节的两个人，他们使用的工具也是不同性质的物品。尺笔是绘图用工具，而剪子是裁剪用工具，谁好谁坏没法比较。设计师和裁剪师谁的技术高，也没法衡量。
　　三纳米蚀刻机？风马牛不相及，蚀刻是蚀刻，光刻是光刻，只有光刻才能用三纳米这个量级。两种东西，两种目的。
　　工艺流程不同上的不同设备，不能比。
　　这是不同的工艺。完全不同，不能尺寸一样就当一种东西。就怕决策者也这样认知。
　　你就说我们的蚀刻机能不能卡外国的脖子吧？